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शुद्ध टंगस्टन प्लेट टंगस्टन शीट

संक्षिप्त वर्णन:

शुद्ध टंगस्टन प्लेट का उपयोग मुख्य रूप से उच्च तापमान भट्टी में विद्युत प्रकाश स्रोत और विद्युत वैक्यूम भागों, नावों, हीटशील्ड और ऊष्मा निकायों के निर्माण में किया जाता है।


वास्तु की बारीकी

उत्पाद टैग

शुद्धता 99.95% टंगस्टन प्लेट्स टंगस्टन शीट्स संक्षिप्त परिचय:

1. सामग्री ग्रेड:डब्ल्यू1.

2. टंगस्टन शुद्धता:99.95%।

3. घनत्व:19.1g/cm3 से कम नहीं।

4. आकार:0.1 मिमी ~ 100 मिमी मोटाई x 50-600 मिमी चौड़ाई x 50-1000 मिमी लंबाई।

5. सतह:काला, रासायनिक साफ या मशीनी/जमीन।

6. टंगस्टन शीट फ़ीचर:उच्च पिघलने बिंदु, उच्च घनत्व, उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध, लंबी सेवा जीवन, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च गुणवत्ता, व्यावहारिकता।

संक्षिप्त परिचय (1)

7. शुद्ध टंगस्टन प्लेट / टंगस्टन शीट के अनुप्रयोग:टंगस्टन प्लेट मुख्य रूप से उच्च तापमान भट्ठी, चिकित्सा निदान और उपचार उपकरण में विद्युत प्रकाश स्रोत और इलेक्ट्रिक वैक्यूम भागों, नावों, हीटशील्ड और गर्मी निकायों के निर्माण में उपयोग किया जाता है; उच्च तापमान हीटिंग तत्व और उच्च तापमान संरचना भागों के साधन के रूप में;वैक्यूम वाष्पीकरण और टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य बनाने के लिए उत्पाद टंगस्टन सर्पिल।

टंगस्टन शीट का आकार (अधिकतम मिमी)

मोटाई चौड़ाई लंबाई
0.05-0.15 100 200
0.15-0.20 205 1000
0.20-0.25 300 1000
0.25-0.30 330 1000
0.30-0.50 350 800
0.50-0.80 300 600
0.80-1.0 300 500
1.0-1.50 400 650
1.50-3.0 300 600
>3.0 300 L

टंगस्टन सामग्री गुण

लगातार बढ़ती तापमान स्थितियों के तहत विश्वसनीयता बनाए रखने वाली सामग्रियों के लिए इलेक्ट्रॉनिक्स, परमाणु और एयरोस्पेस उद्योगों से टंगस्टन सामग्री की बढ़ती मांग है।क्योंकि इसके गुण इन आवश्यकताओं को पूरा करते हैं, टंगस्टन भी बढ़ती मांग का अनुभव कर रहा है।

कई इलेक्ट्रॉनिक्स अनुप्रयोगों में टंगस्टन की मांग का समर्थन करने वाले लक्षण हैं:

उच्च तापमान पर ताकत और कठोरता।

● अच्छी तापीय चालकता।

कम तापीय विस्तार।

कम उत्सर्जन।

संक्षिप्त परिचय (2)

पॉलिश टंगस्टन प्लेट आकार (अधिकतम मिमी)

मोटाई चौड़ाई लंबाई
3.0-4.0 250 400
4.0-6.0 300 600
6.0-8.0 300 800
8.0-10.0 300 750
10.0-14.0 200 650
>14.0 200 500

शुद्ध टंगस्टन प्लेट / टंगस्टन शीट

भट्ठी के पुर्जे, सेमीकंडक्टर बेस प्लेट, इलेक्ट्रॉन ट्यूब के लिए घटक, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण के लिए उत्सर्जन कैथोड, आयन प्रत्यारोपण के लिए कैथोड और एनोड, कैपेसिटर के सिंटरिंग के लिए ट्यूब / नाव, एक्स-रे डायग्नोस्टिक्स के लिए लक्ष्य, क्रूसिबल, ताप तत्व, एक्स-रे विकिरण परिरक्षण, स्पटरिंग लक्ष्य, इलेक्ट्रोड।


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